化学气相沉积(ChemicalVapor Deposition,CVD)制备的碳化硅(SiC)是一种高性能材料，因其卓越的物理与化学特性，在半导体制造中扮演着重要角色。本产品采用先进的CVD技术，通过精确控制沉积条件，制备出具有极高纯度、优异热稳定性和化学稳定性的SiC材料。